Yapay grafit üretimi için GC tipi poliamid karbon bazlı film

GC Tipi Poliimid Karbon Bazlı Film – Yapay Grafit Üretimi için Gelişmiş Öncü​

​Temel Özellikler​

Yüksek sıcaklıkta (3000°C'ye kadar) grafitleştirme işlemleri için özel olarak tasarlanan çift eksenli olarak gerilmiş PI filmimiz şunları sağlar:

• ​Yüksek Karbon Verimi​ : Minimum %65 dönüşüm verimliliği

• ​Hassas Yönlendirme​ : Düzgün kristal yapı için 3:1 MD/TD esneme oranı

• ​​Ultra Düşük Kirlilik​​ : <50 ppm kül içeriği grafit saflığını garanti eder

• ​​Termal Direnç​ : 450°C ön karbonizasyona kadar stabildir

• ​Kalınlık Seçenekleri​ : Özelleştirilmiş yoğunluk gereksinimleri için 25-125μm (±%3 tolerans)

​​Teknik Özellikler​​

​Kritik Uygulamalar​

• ​​Termal Yönetim​​ : 5G/LED soğutma çözümleri için ısı dağıtıcılar

• ​Enerji Depolama​ : Lityum iyon piller için akım toplayıcılar

• ​​Yakıt Hücresi Bileşenleri​​ : Gaz difüzyon katmanı alt katmanları

• ​​Havacılık Sistemleri​ : Uydular için termal arayüz malzemeleri

• ​Yarı İletken İşleme​ : Yüksek saflıkta gofret taşıyıcıları

​Kalite Güvencesi​

• ​ ile uyumlu​JIS K 7128​​ ve ​ASTM D882standartlar

• ​​±%1 kalınlık tutarlılığıGüvenilir grafitleştirme için

• ​Teknik desteksıcaklık rampası profilleri dahil

• ​Tescilli formülasyonDönüşüm sırasındaki kusurları en aza indirir

​Sipariş ve Hizmetler​

• ​Standart Formatlar​ : 500/1000mm genişlik × 100-300m uzunluk

• ​​Çekirdek Seçenekleri​​ : 3" veya 6" endüstriyel çekirdekler

• ​Özel İşleme​:

  • Önceden karbonize edilmiş filmler (600°C işlenmiş)

  • Özel imidizasyon seviyeleri

• ​Minimum Sipariş​ : 200kg (numuneler mevcut)

​Depolama Protokolü​

• ​Raf Ömrü​ : Üretimden itibaren 6 ay

• ​Çevre​: 10-30°C, <%60 bağıl nem

• ​​Kullanım​​ : Kırışmayı önlemek için düz saklama önerilir